发布网友 发布时间:2022-03-27 01:11
共13个回答
懂视网 时间:2022-03-27 05:33
刻蚀机和光刻机的区别如下:
1、工艺不同:刻蚀机是将硅片。上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。
2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由。此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。
热心网友 时间:2022-03-27 02:41
为什么有人说国内芯片产业还有很长的路要走?中国的刻蚀机确实达到了世界先进水平,而光刻机还很早,即使两者都是世界先进水平,也并不意味着中国芯片工业的未来不会很难。
目前,国内的刻蚀机确实处于领先地位,5纳米等离子刻蚀机已经通过台积电的验证,但光刻机更差。前次报告中提到的“中科院SP超分辨率光刻机”最多只能算是一个“样机”,无法与ASML光刻机相比,也无法用于芯片制造,一系列技术问题亟待解决。
退一步说,即使国产光刻机和蚀刻机已经达到世界领先地位,问题是否已经解决?ASML的EUV光刻机已订购交付。我们能在交货后生产7Nm甚至5nm的芯片吗?别把这个问题想得那么简单,因为只有用于芯片的光刻机和蚀刻机。芯片制造的技术、经验、技术和人才是一项系统工程。台积电不是一天建成的。有了光刻机,我们就不能制造顶级芯片。
再退一步讲如果一流光刻机和刻蚀机都国产,台积电也变成了国产企业,国产的芯片业就独步天下了么?当然不是,我们还需要高通、苹果、英伟达、英特尔、赛灵思、德州仪器这样的芯片设计、研发、制造和销售公司来打造整个芯片行业的产业链。芯片行业的产业链非常长,不是靠几台光刻机和刻蚀机就能解决问题了,上、中、下游都有众多厂商在其中竞争搏杀,从这个意义上来讲,国产的芯片行业并非全面落后,但前路的确依旧艰辛,需要我们继续努力!!
热心网友 时间:2022-03-27 03:59
蚀刻机我国的水平已经达到了世界一流水平,我们的蚀刻机水平已经达到了目前世界上最先进的5纳米级别,当然并不是只有我们自己一家达到这个水平,世界上总共能做到5纳米级别的有四五家,我们只是其中一家,日本可以做到,美国可以做到,欧洲也有一家可以做到这样的精度,所以说我们的蚀刻机水平是目前世界上最先进之一。热心网友 时间:2022-03-27 05:33
全世界美国的芯片技术是最好的,中国在这方面的地位肯定没有人家高的。热心网友 时间:2022-03-27 07:25
目前的水平还是领先的吧,毕竟国产正在崛起的热心网友 时间:2022-03-27 09:33
这种机器凭借着它“中国制造”的名头在世界上越卖越火。热心网友 时间:2022-03-27 11:57
量子芯片不用这刻蚀机,一下超越。热心网友 时间:2022-03-27 14:39
加紧搞,中国会弯道超车的,热心网友 时间:2022-03-27 17:37
再好也踏马地“造不如买,买不如租”?永远闻洋屁最香?热心网友 时间:2022-03-27 20:51
那是踏马的相当的好!!!热心网友 时间:2022-03-28 00:23
垃圾水平!我这个回答中肯吧?热心网友 时间:2022-03-28 04:11
我们早就世界第一了。为了低调。不愿意告诉你们。热心网友 时间:2022-03-28 08:15
我觉得国产蚀刻机已经是在世界上处于上游位置了的。